c**y
发帖数: 99 | 1 用双层胶来 lift off metal比较容易，但是最后形成的metal stripe会有undercut，
然后第二步光刻又会在这个 metal 的 undercut 形成的 photo resist residual 很难
去掉。
想用单层胶来做 lift off, 不知道会不会解决 metal undercut 这个问题？
Thanks! | R********n
发帖数: 417 | 2 double lithography为什么metal会有undercut?
应该是PR有undercut才对
【在 c**y 的大作中提到】
: 用双层胶来 lift off metal比较容易，但是最后形成的metal stripe会有undercut，
: 然后第二步光刻又会在这个 metal 的 undercut 形成的 photo resist residual 很难
: 去掉。
: 想用单层胶来做 lift off, 不知道会不会解决 metal undercut 这个问题？
: Thanks!
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